第134章 接受軍方任務

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  蘇硯醒來的時候,床的另一側已經空了,摸著還帶有餘溫的床鋪,蘇硯有些悵然若失。

  不過,洗漱完之後,她就已經恢復了常態。

  在去實驗樓的路上,蘇硯就被師兄江鳴半路劫走,直接去了盧教授的辦公室。

  一進門,盧教授正在和曹主任喝著茶水閒聊,看到蘇硯進來,曹主任立刻熱情的起身打招呼。

  「小蘇同志,好久不見啊!」

  蘇硯點頭笑著回應,「曹主任,我們好像也就幾天沒見吧?」

  「哎呀,小蘇,你可不知道,我們部隊通訊部上下研讀了你給我們的《無線電通訊維修要領》,和《寒區升級收音方案》資料,簡直醍醐灌頂,受益匪淺啊。

  我們對你真是想念的緊,這不,我受領導委託又來麻煩你出馬,給我們解決問題來了。」

  蘇硯客氣的笑笑,有些不知道怎麼回答,她們學生可以直接跨過老師接受外面的任務嗎?

  她不太了解,就將目光調轉到盧教授身上。

  盧興德摸著下巴看著自己搶來的這個學生,越看越是滿意,此刻接受到學生疑惑的目光,他起身解釋道。

  「鑑於你出色的能力,這件事還跟你前一段日子創造出來的小型集成電路有關。這個任務還真的非你莫屬。

  這是國家相信你的能力,你可別推辭啊!」

  蘇硯心裡有底,這才好奇問道,「是什麼任務啊?」

  「上面希望將你的小規模集成電路量產,用於替代進口零散 IC,優先保障軍品供給。

  我們想將軍用電台、儀器儀表等國防關鍵裝備都更換上我們國產的集成電路。」

  這是好事啊!

  蘇硯立刻眼睛放光,當即應允,「可以,什麼時候開始?」

  曹主任聞言哈哈大笑,轉頭對盧興德教授道,「教授,真不愧是您的學生,這性子就是急。我們想給你三天準備時間,你看夠不?」

  「不用三天準備,我現在就可以走。」蘇硯回道。

  革委會那邊資料已經健全,卻遲遲等不來回信,雖然聽倪虹說,陸廷州已經查到了那個主任的把柄,將人弄下去又換了個主任,可按照正常流程來說,還要兩三個月才能批覆下來結果。

  還有一個多月就過年了,蘇硯希望在一個月內搞定量產的事情,然後她就可以憑藉軍功,風風光光去鄉下將養父養母接回來過年。

  看著蘇硯亮閃閃的眼神,曹主任哈哈大笑,「行,那就現在走。不過,這次任務比較繁重,我們在京市光東工廠這邊定下生產線後,還要去海城那邊搞一條同樣的生產線,你能出差嗎?」

  「完全沒問題。」蘇硯點頭回道。

  「行,那你現在就回去收拾東西,我就在這等著你。」曹主任也是個雷厲風行的人。

  蘇硯回宿舍簡單收拾了幾件換洗衣物,僅僅十分鐘後就返回。

  曹主任也沒有二話,開車帶著蘇硯直奔國營光東工廠。

  在曹主任的陪伴下,這裡沒有任何人為難看起來就很年輕的蘇硯,大家都客客氣氣接受她的指導。

  國營光東電工廠超淨車間密閉無塵,恆溫系統持續運轉,濾塵設備發出細碎平穩的嗡鳴,消解了所有多餘的聲響。

  整間車間籠罩在半導體工藝專用的暖黃色安全燈下,褪去了刺眼的白光,只為保護光刻膠塗層不受光線干擾。

  空氣里浮動著高純氮氣、光刻膠與有機溶劑交織的清冷淡味,每一寸空氣都經過層層過濾,連飄落的微塵都近乎絕跡。

  身著全套白色潔淨服的眾人包裹得嚴嚴實實,頭罩、口罩、無菌手套、無塵鞋缺一不可,只露出一雙雙凝神專注的眼睛,在暖黃燈光下熠熠生輝。

  蘇硯佇立在光刻工藝操作台旁,身姿挺拔沉穩。

  連日紮根車間通宵調試,她的眼底藏著淡淡的青黑,眉眼間卻沒有半分疲態,只剩極致的專注與篤定。

  面前的操作台一塵不染,整齊擺放著待測試的矽片、精密鑷子、刻度記錄本與調試工具,頁面上密密麻麻寫滿了疊代數百次的工藝參數。

  柵氧生長溫度、擴散爐恆溫時長、光刻對準誤差、源漏摻雜配比,每一組數據都是她依託成熟的DTL雙極工藝,反覆推翻、反覆調試摸索出的關鍵依據。


  身旁兩名年輕技術員正俯身緊盯顯微鏡,反覆核對剛出爐的PMOS管芯切片,神情緊繃,眉宇間藏著一絲焦灼。

  這段時間,他們最大的難題始終是柵極邊緣毛刺、局部摻雜不均,屢屢拉低矽片成品率,好幾次即將成型的工藝參數,都因這兩處瑕疵功虧一簣。

  年輕技術員壓著心底的忐忑,輕聲匯報,聲音被口罩悶得低沉含糊。

  「蘇工,這批試樣還是老問題。光刻顯影后,柵極線條邊緣不夠平滑,有細微毛刺,而且部分片區摻雜濃度偏差超標,達不到量產標準。

  我們按照原DTL工藝參數微調過幾次,偏差反而更大。」

  蘇硯聞言沒有立刻開口責備,只是微微頷首,抬手微調顯微鏡焦距,動作輕柔穩當,力道精準分毫不差。

  她俯身湊近目鏡,目光沉沉落在微小精密的管芯結構上,細細觀察紋路、塗層與摻雜層次,幾秒後便精準摸清了問題根源。

  她直起身,指尖輕點記錄本上的兩組核心參數,語氣平穩溫和,卻帶著不容置疑的專業底氣,字字清晰、條理分明。

  「DTL是雙極工藝,和我們現在攻堅的PMOS工藝底層邏輯完全不同,不能直接套用老參數。

  雙極工藝側重電流放大,而PMOS核心在柵氧層的均勻度和可控性,生搬硬套只會出現邊緣畸變、摻雜失衡。」

  說著,她側身讓出操作台的位置,示意技術員上前實操觀摩。

  暖黃燈光落在她潔淨服肩頭,沉穩的嗓音在機器嗡鳴中清晰傳開,耐心拆解每一處操作細節。

  「接下來調整兩組關鍵參數。第一,把氧化爐恆溫區間上調三攝氏度,延長二十分鐘恆溫保持時間,讓柵氧層生長得更均勻緻密,從根源減少邊緣毛刺。

  第二,降低離子注入速率,放慢摻雜進度,寧可慢一點,也要保證整片矽片的摻雜濃度均勻統一,杜絕局部偏差。」

  兩名技術員連忙上前,一人緊盯儀器錶盤記錄參數,一人俯身核對顯微鏡下的管芯狀態,緊繃的神經漸漸鬆弛。

  蘇硯一邊緊盯設備運行狀態,一邊趁熱打鐵,糾正團隊固化的老工藝思維。

  「大家要記住,我們現在是在成熟的DTL工藝線上,硬生生開拓MOS集成電路的量產路徑,不是簡單的參數微調,而是工藝體系的革新。

  以往進口零散IC參數雜亂、沒有統一標準,我們現在每一次精準調試,都是在搭建屬於我們自己的國產工藝規範。」

  她抬手拿起一片調試合格的矽片,舉到燈光下,薄如蟬翼的矽片泛著清冷細膩的光澤,規整均勻的電路紋路清晰可見。

  「你們看,合格的PMOS小規模集成電路,線條平直無毛刺、摻雜均勻無偏差,這就是我們要落地的量產標準。

  後續我們制定的邏輯IC、運算放大器國產規範,就要以這套工藝參數為基準,徹底擺脫對進口晶片的依賴,優先保障軍用電台、精密儀器儀表的核心供給。」

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