第307章 總算不用被念叨了

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  一時之間,韓熹心裡複雜極了。

  一方面是覺得有些挫敗,自己帶團隊磨了大半年的東西,被肖宿隨隨便便用這種降維打擊的方式就做完了。

  而另一方面,又感到一種窗戶紙被捅破了之後的暢快,以前在霧裡摸索方向,現在有了地圖,就知道該往哪兒走了。

  他揉了揉發酸的眼睛,把筆記放下,對坐在旁邊的鄒楊說道:

  「很詳細了,儘快把進度上報吧。」

  鄒楊點頭:「明白,明天早上我就寫個報告交上去。」

  「嗯,另外,和賀總師那邊也通個氣。

  他們做超燃衝壓仿真遇到的流場曲率奇異問題,和這篇論文裡說的法旗方向曲率發散是同源的。

  如果他們還沒聯繫的話,我們可以兩個單位一起行動,效率會更高。」

  鄒楊點頭記下,先回去寫報告了。

  房間裡再次安靜下來,韓熹坐了一會兒,還有些愣神。

  他在這個領域做了一輩子了,比誰都清楚流體力學基礎理論的突破對推進技術的推動有多大。

  肖宿這篇論文證明的不只是一個數學猜想的正確性,它等於給所有和流體相關的工程領域重新鋪了一層地基。

  只要把論文中嵌入曲率分解和分層篩法的那部分理論用到他們的磁場優化上,如果順利的話,壁面腐蝕速率有望再降一個台階。

  而這個台階一過,霍爾推進器的壽命就能夠上一趟深空任務了。

  肖宿,遠比他想像的還要出色啊。

  ……

  京大,別墅區的隔音做的很好,肖宿的書房靜悄悄的,只有他敲擊鍵盤的脆響。

  他桌上攤著一疊剛從印表機里拉出來的文獻,旁邊是那張畫滿了譜域對消框架推導的草稿紙。

  下午他已經把隱身衣的理論框架主體部分全部做完了,現在還有幾個工程實現的細節還需要推敲,他正在往第四節工藝誤差的魯棒性分析里填入新的引理。

  書房的門被輕輕敲了兩下。

  「肖教授,您之前要的材料準備好了。」

  高長安推門進來,手裡拿著一個厚度不小的文件袋,袋口封得規規整整的。

  他把文件袋放在書桌上。

  肖宿打開文件袋,抽出一疊列印好的報告。

  這些報告已經被高長安按子領域分好類別了,內容也很齊全,幾乎涵蓋了全部超材料隱身研究課題組的最新實驗進展。

  超材料的介電常數、磁導率調控數據、納米天線的製備工藝……

  每一項內容後面還都附了原始文獻的摘要和關鍵數據的匯總表。

  肖宿快速翻了翻,很快翻到有源超表面天線那一節,目光停在了調控帶寬的數據上。

  鈮酸鋰薄膜的調製頻率上限在幾十吉赫茲量級,石墨烯等離激元調製器在實驗室條件下做到了將近兩百飛秒的響應時間,但均勻性指標一欄標註著一個明顯的「不達標」字樣。

  和他之前在論文裡估算的結論基本吻合。

  肖宿把這份材料放到一邊,正打算繼續翻下一份,發現高長安還站在書桌旁邊。

  他抬起頭,有些疑惑的看了高長安一眼。

  高長安的表情和平時不太一樣,嘴唇動了動,又抿著,好像有什麼話想說又說不出口。

  「怎麼了?」

  高長安遲疑了一下,目光在肖宿桌上那堆超材料的文獻上掃了一圈。

  「肖教授,您現在研究的東西,是不是……也和光刻有關?」

  肖宿點了點頭。

  超材料隱身衣的核心就是納米天線陣列,無論是走哪一種工藝路線,歸根到底都是要靠微納加工來做的。

  電子束光刻、納米壓印、自組裝,每一種都離不開高精度的光刻或類光刻工藝。

  從這個角度來說,研究隱身衣本身就是在研究光刻技術的應用延伸。

  高長安得到這個肯定的答覆之後,沒再多說什麼,而是又從隨身的公文包里抽出一個深藍色的文件夾,遞到了肖宿面前。

  肖宿翻開一看,是一份關於國產深紫外光刻系統關鍵子系統研製進展的報告。


  他往下翻了幾頁,發現內容很簡略,就是從整體上勾勒出了目前國產光刻系統研發的大致格局,然後提到了國產深紫外光刻系統關鍵子系統研製項目組。

  簡單來說,這是一個專項由科技部牽頭,聯合了國內幾家最具實力的微電子研究所和精密光學研究單位共同攻關的實驗課題。

  其中,滬城微電子研究所承擔了核心光學系統的設計任務,長光精密光學研究所負責物鏡系統的加工與裝調,另外還有幾家單位分別負責光源、工件台和浸沒系統的研發。

  這套被寄予厚望的國產光刻系統,對標的是國際上已經成熟應用多年的193納米浸沒式光刻平台,目標是實現從光源到物鏡到工件台的全系統自主可控……

  前面那些光刻系統的技術架構肖宿並不陌生,193納米浸沒式光刻在國際上已經成熟應用很多年了,那些光學系統的底層理論框架沒什麼特別的,肖宿掃了幾眼就大致了解他們的設計思路了。

  這些沒什麼可看的,他很快就翻完了,視線停在了報告最後一頁上。

  這裡他們重點寫了幾個這個實驗目前遇到的瓶頸。

  光學系統的波像差一直壓不到目標值以下,導致解析度無法穩定滿足工藝節點的要求……

  工件台的定位精度雖然在靜態測試中達標,但在高速掃描狀態下的動態跟蹤誤差始終偏大,影響曝光效率……

  照明系統的空間相干性均勻度差,多次調整光學設計都沒能徹底改善,直接限制了成像對比度……

  這上面的幾個問題還只是子系統層面的。

  當所有子系統聯調聯試的時候,各單元之間的耦合誤差還會進一步疊加放大。

  也就是說,整個系統的綜合性能距離實用化還是有相當一段距離的。

  肖宿把匯報翻完,抬眼看向高長安。

  高長安不等他開口,連忙解釋道:

  「肖教授,這個是科技部牽頭的光刻機專項研究報告,目前國內幾家頂尖的光刻機研究所,還有滬城微電子研究所,都在參與這個項目,只是……一直沒有太大進展,遇到了一些技術瓶頸,他們知道您最近對光學感興趣,就想請您幫忙看看。」

  原來是想讓他幫忙。

  肖宿點點頭,但是沒有立刻答覆。

  他重新翻開文件夾,翻到光學系統那一節,目光在波像差的描述段落上停了一會兒。

  光刻物鏡的波像差本質上是一個光學傳遞函數的相位偏差問題,而相位偏差的來源是物鏡系統中幾十片透鏡的加工誤差和裝調誤差的疊加。

  在傳統的光學工程中,波像差的校準靠的是對每一片透鏡的六個自由度進行逐片微調,然後反覆測量驗證,是一個典型的「調一調,看一看」的試湊過程。

  但如果把整個物鏡系統看作一個辛流形上的哈密頓系統,鏡片組的裝配自由度對應位形空間,波前誤差對應哈密頓量,那波像差的最優校準就等價於在辛流形上尋找哈密頓量的極小值了。

  而他已經在超材料設計的譜域對消框架里搭好了類似的最優逼近思路,把那裡的控制論方法挪過來,也許能給出一個更系統的校準方案。

  從方向上來說,可行。

  但具體到他們遇到的那些數值指標到底能不能壓下去,得親眼看看實際的裝調數據和測試環境才能判斷。

  光刻系統改進之後,後期他的隱形材料製作也能快很多了。

  「可以,」肖宿說。

  高長安明顯鬆了一口氣,語速都比平時快了半分。

  「好的,那您大概什麼時候方便?」

  肖宿還要抓緊研究隱身衣,自然是越快越好。

  「明天早上。」

  「太好了,剛好明天上午滬城微電子的人這幾天在京城的研發中心做聯調測試,設備和技術人員都在,我這就安排。」

  肖宿把文件夾放在桌上那堆超材料文獻的旁邊。

  「嗯。」

  高長安看著肖宿專注的身影笑了笑,轉身出去安排的時候,腳步比進來時明顯輕快了不少。

  他總算不用再被高長平念叨了。

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