第56章 投影式光刻機
過完年，入春之後，國內遭受旱災的耕地面積有了大幅收縮。
其實以正常年份來看，今年也是個災年，但前兩年實在太嚴重了，相比之下，今年的受災耕地面積連去年的一半都沒有，已經是大為改善了。
城市供銷社的農副產品已經不再缺貨，每人的口糧配額再次小幅增加，大家的生活也漸漸恢復正常。
這天上午，徐衛國來到單位後，第一時間趕去了光刻機實驗室。
歷經兩年有餘的研發，他們的投影式光刻機已經來到了收尾階段，他每天都得去看看進展。
進了實驗室大門，剛走幾步，徐衛國突然頓住了。他轉身，走到旁邊的掩膜台項目組，推開虛掩的門往裡瞧了眼，屋裡沒人。
整棟樓都安靜的嚇人，完全不像有幾百號人的樣子。
「章立軍？幹什麼呢你們？人都去哪了？」徐衛國喊道。
一邊喊著，他快步往放置光刻機的房間走去。
轉過拐角，走廊里烏泱泱站滿了人，全都瞪著熬得紅通通的眼睛，一聲不吭的看著徐衛國，嚇了他一跳。
「不在自己工位，都在這幹什麼呢？」徐衛國喊道。
沒人說話。
「說話啊你們，傻了嗎？」徐衛國的心一下子緊繃起來，他看向站在人群最前方的室長章立軍：「章立軍，你們在這搞什麼，出什麼問題了？」
章立軍微微低下頭，還是不吭聲。
徐衛國快步走上前，使勁拍了拍章立軍的胳膊：「你啞巴了？說話啊？出什麼問題了？樣機損壞？還是……有人猝死了？」
章立軍抬起頭，小聲道：「所長……」
「你特麼倒是說啊！」
「我們……成功了！」
嗷嗷嗷~
走廊上突然響起震耳的歡呼聲，眾人跟突然活過來了一般，一擁而上，架著徐衛國的胳膊腿就抬了起來。
「放下，放下我，我恐高！**，一幫傻蛋！」
眾人抬著徐衛國走進存放光刻機樣機的房間，這才把他放下來。
看著面前與一輛小貨車體積相當的龐大機器，徐衛國也顧不上惱火了，問道：「什麼時候完成的？」
章立軍笑嘻嘻的道：「凌晨五點。」
徐衛國心裡鬆了口氣，走到機器前，盯著看了一陣。
接著，他突然轉過身，冷冷的看著喜氣洋洋的眾人。
被他這麼盯著，眾人臉上的笑容一僵，有些無措。
隨後，徐衛國目光掃向章立軍。
章立軍也有點懵，怯怯的道：「老……所長！」
沉默，足足七八秒的沉默後，徐衛國嘴角才浮起一絲笑意，道：「乾的不錯！」
他這一笑，其他人緊張的神經這才放鬆下來。
「你嚇我一跳，我還以為哪出問題了呢！」章立軍苦著臉道。
徐衛國輕哼一聲，「你們嚇唬我，就不許我嚇唬你們？……行了，都回去休息吧！休息好了再回來工作。」
「我們不困，現在就安排生產集成電路樣品試試唄？」
「對啊，我們還能扛！」
徐衛國揚了揚手，道：「行了行了，機器都做出來了，不差這一天。明天吧，明天再開始吧！」
這年代集成電路的生產過程還是很漫長的，尤其是集成的電子元器件越來越多，從一塊矽片到變成封裝好的成品，實際生產過程常常需要數周。
當然，其中大部分時間都耗費在了各個流程之間的準備等待過程中，而真正製造過程耗費的時間，則大概要十幾個小時。
……
轉眼到了第二天，徐衛國來到單位後，使用新設備的集成電路樣品試生產工作正式開始。
製造集成電路，只有光刻機當然是不夠的，還需要薄膜沉積設備、刻蝕設備、摻雜設備、清洗設備、檢測設備、封裝設備，總共六大項。
這六類設備在他們研究所有不同實驗室負責，都是幾十人的小團隊。
從它們的複雜程度跟研製難度來說，自然是遠不及光刻機的，去年底的時候就已經完成了研發。如今光刻機也做出來了，那麼集成電路的製造工作也就打通了全技術鏈條。
徐衛國首先前往各相關實驗室，布置任務。
晶圓他們有現成的，這東西能長期儲存，不需要再從石英砂開始生產了。
集成電路版圖設計圖紙也有現成的，直接用新款計算器上的同款，畢竟他們只是要驗證生產設備的功能，暫時不需要集成那麼多電子元器件。
真正開始的第一步，是根據電路版圖製造掩模。
因為電路版圖已經相當複雜，已經不可能再像初期那樣手工製造掩模，必須使用一種新設備，圖形發生器。
這東西就是一個將電路設計圖「雕刻」到掩模版上的設備，其中還需要用到高性能計算機，其原理就是使用計算機將版圖設計文件分解成簡單的基本圖形單元，隨後計算機控制可變矩形光闌的矩形孔不斷變化方向跟大小，在這個過程中光源照射矩形光闌，對其進行曝光、最後在掩模版上拼接成完整圖形。（可變矩形光闌是由金屬刀片組成的，開口大小可調整的矩形孔）
此時的圖形發生器使用的是純光學方法，效率很低，後世已經採用雷射直寫技術。
完成掩模製造後，接著就要拿去做薄膜沉積、繼而光刻、隨後刻蝕、離子注入，晶圓測試，封裝。
為了儘快拿到集成電路樣品，徐衛國給各實驗室安排好了時間表，晚上也不停，人跟著製造流程走。
就在這樣不間斷的工作下，等第一塊集成電路封裝完成，也已經是五天後了。
拿到樣品後，實驗室第一時間對其進行了功能性驗證，結果全部合格。
接下來最重要的事，則是測量其加工精度，最核心的指標是特徵尺寸。
所謂特徵尺寸，打個比方就是筆尖有多細，越細越好，越細就能寫出越小的字。
後世常說的晶片採用幾納米工藝，指的就是特徵尺寸。
他們使用的光刻機，理論上已經能加工亞微米級、也就是從100納米到1微米級別特徵尺寸的集成電路，但實際效果還不知道。
其實以正常年份來看，今年也是個災年，但前兩年實在太嚴重了，相比之下，今年的受災耕地面積連去年的一半都沒有，已經是大為改善了。
城市供銷社的農副產品已經不再缺貨，每人的口糧配額再次小幅增加，大家的生活也漸漸恢復正常。
這天上午，徐衛國來到單位後，第一時間趕去了光刻機實驗室。
歷經兩年有餘的研發，他們的投影式光刻機已經來到了收尾階段，他每天都得去看看進展。
進了實驗室大門，剛走幾步，徐衛國突然頓住了。他轉身，走到旁邊的掩膜台項目組，推開虛掩的門往裡瞧了眼，屋裡沒人。
整棟樓都安靜的嚇人，完全不像有幾百號人的樣子。
「章立軍？幹什麼呢你們？人都去哪了？」徐衛國喊道。
一邊喊著，他快步往放置光刻機的房間走去。
轉過拐角，走廊里烏泱泱站滿了人，全都瞪著熬得紅通通的眼睛，一聲不吭的看著徐衛國，嚇了他一跳。
「不在自己工位，都在這幹什麼呢？」徐衛國喊道。
沒人說話。
「說話啊你們，傻了嗎？」徐衛國的心一下子緊繃起來，他看向站在人群最前方的室長章立軍：「章立軍，你們在這搞什麼，出什麼問題了？」
章立軍微微低下頭，還是不吭聲。
徐衛國快步走上前，使勁拍了拍章立軍的胳膊：「你啞巴了？說話啊？出什麼問題了？樣機損壞？還是……有人猝死了？」
章立軍抬起頭，小聲道：「所長……」
「你特麼倒是說啊！」
「我們……成功了！」
嗷嗷嗷~
走廊上突然響起震耳的歡呼聲，眾人跟突然活過來了一般，一擁而上，架著徐衛國的胳膊腿就抬了起來。
「放下，放下我，我恐高！**，一幫傻蛋！」
眾人抬著徐衛國走進存放光刻機樣機的房間，這才把他放下來。
看著面前與一輛小貨車體積相當的龐大機器，徐衛國也顧不上惱火了，問道：「什麼時候完成的？」
章立軍笑嘻嘻的道：「凌晨五點。」
徐衛國心裡鬆了口氣，走到機器前，盯著看了一陣。
接著，他突然轉過身，冷冷的看著喜氣洋洋的眾人。
被他這麼盯著，眾人臉上的笑容一僵，有些無措。
隨後，徐衛國目光掃向章立軍。
章立軍也有點懵，怯怯的道：「老……所長！」
沉默，足足七八秒的沉默後，徐衛國嘴角才浮起一絲笑意，道：「乾的不錯！」
他這一笑，其他人緊張的神經這才放鬆下來。
「你嚇我一跳，我還以為哪出問題了呢！」章立軍苦著臉道。
徐衛國輕哼一聲，「你們嚇唬我，就不許我嚇唬你們？……行了，都回去休息吧！休息好了再回來工作。」
「我們不困，現在就安排生產集成電路樣品試試唄？」
「對啊，我們還能扛！」
徐衛國揚了揚手，道：「行了行了，機器都做出來了，不差這一天。明天吧，明天再開始吧！」
這年代集成電路的生產過程還是很漫長的，尤其是集成的電子元器件越來越多，從一塊矽片到變成封裝好的成品，實際生產過程常常需要數周。
當然，其中大部分時間都耗費在了各個流程之間的準備等待過程中，而真正製造過程耗費的時間，則大概要十幾個小時。
……
轉眼到了第二天，徐衛國來到單位後，使用新設備的集成電路樣品試生產工作正式開始。
製造集成電路，只有光刻機當然是不夠的，還需要薄膜沉積設備、刻蝕設備、摻雜設備、清洗設備、檢測設備、封裝設備，總共六大項。
這六類設備在他們研究所有不同實驗室負責，都是幾十人的小團隊。
從它們的複雜程度跟研製難度來說，自然是遠不及光刻機的，去年底的時候就已經完成了研發。如今光刻機也做出來了，那麼集成電路的製造工作也就打通了全技術鏈條。
徐衛國首先前往各相關實驗室，布置任務。
晶圓他們有現成的，這東西能長期儲存，不需要再從石英砂開始生產了。
集成電路版圖設計圖紙也有現成的，直接用新款計算器上的同款，畢竟他們只是要驗證生產設備的功能，暫時不需要集成那麼多電子元器件。
真正開始的第一步，是根據電路版圖製造掩模。
因為電路版圖已經相當複雜，已經不可能再像初期那樣手工製造掩模，必須使用一種新設備，圖形發生器。
這東西就是一個將電路設計圖「雕刻」到掩模版上的設備，其中還需要用到高性能計算機，其原理就是使用計算機將版圖設計文件分解成簡單的基本圖形單元，隨後計算機控制可變矩形光闌的矩形孔不斷變化方向跟大小，在這個過程中光源照射矩形光闌，對其進行曝光、最後在掩模版上拼接成完整圖形。（可變矩形光闌是由金屬刀片組成的，開口大小可調整的矩形孔）
此時的圖形發生器使用的是純光學方法，效率很低，後世已經採用雷射直寫技術。
完成掩模製造後，接著就要拿去做薄膜沉積、繼而光刻、隨後刻蝕、離子注入，晶圓測試，封裝。
為了儘快拿到集成電路樣品，徐衛國給各實驗室安排好了時間表，晚上也不停，人跟著製造流程走。
就在這樣不間斷的工作下，等第一塊集成電路封裝完成，也已經是五天後了。
拿到樣品後，實驗室第一時間對其進行了功能性驗證，結果全部合格。
接下來最重要的事，則是測量其加工精度，最核心的指標是特徵尺寸。
所謂特徵尺寸，打個比方就是筆尖有多細，越細越好，越細就能寫出越小的字。
後世常說的晶片採用幾納米工藝，指的就是特徵尺寸。
他們使用的光刻機，理論上已經能加工亞微米級、也就是從100納米到1微米級別特徵尺寸的集成電路，但實際效果還不知道。