第641章 保密通信計算機
集成電路的研究，也並沒有出現太大問題。
畢竟已經有了規劃，按照規劃往下走，一步步進行研究就可以，只不過光刻機的研究並不是那麼順利。
光刻機的研究已經定下了基調。
要研究接觸式光刻機，除了觸式光刻機外，在這年代還有接近式光刻機。
接觸式光刻機它的優點就是結構相對簡單，成本較低，並且因為掩模版和矽片緊密接觸，所以光的衍射效應較小，這樣就能得到相對較高的解析度。
但也有缺點。
那就是掩模版與矽片表面的光刻膠會有直接接觸，所以這就容易導致相互污染和磨損，讓掩模版使用壽命大幅減少，必須要頻繁更換。
接近式光刻機就不一樣了。
它的研究出來的原因，就是因為解決接觸式光刻機掩模版易損壞的問題，所以才有了接近式光刻機。
這樣就能夠提高掩模版的使用壽命，以及良品率。
但也有缺點，那就是容易導致系統的解析度下降，不如接近式光刻機接觸式光刻機。
可以說這兩種光刻機，都是這個年代的主流，不過相比起來還是接觸式光刻機更容易製造。
雖然接近式光刻機與矽片表，只有2.5-25微米的距離，但就是這麼微小的距離，增加了機器製造的難度。
而像是後世的投影式光刻機、掃描投影式光刻機、步進重複式光刻機、步進掃描式光刻機 、浸沒式光刻機、極紫外光刻機。
這些雖然更好用，但在這年代根本就製造不出來。
先不說後面幾款光刻機，就算是投影式光刻機、掃描投影式光刻機，這兩款計算機，都要等到70年代初才會被研究出來。
並且研究出來的難度，比起接觸式光刻機難度不止增加了一倍。
李梟也不奢望其它，能在1970年代以前，研究出投影式光刻機就可以，這也就意味著追上了國際水平，不至於被落下。
「小梟你什麼時候回來的？」，看到李梟，羅教授很高興道。
「昨天剛到，羅教授，光刻機研究的怎麼樣了？」，在羅教授的辦公室中，坐下後李梟問道。
「不太理想，中間遇上了問題，一直沒找到解決的辦法。」，提到正事，羅教授也是皺起眉道。
聞言李梟心裡也跟著沉了沉，能讓羅教授這般犯難的，絕不是小麻煩，也就道：「都有什麼問題？」。
「那問題就太多了，我都有些頭痛。」，羅教授嘆了口氣，伸手從抽屜里拿出兩片透明的石英掩模，遞給了李梟。
李梟接過去看了看，就看到上面那許多細密的劃痕，羅教授也是這個時候開口道：「你先看看這個，這是上周剛做的掩模，才用了三次，表面就劃成這樣，現在用的掩模基板太薄，壓的時候只要稍微沒控制好，要麼掩模裂了，要麼晶圓表面被刮出印子，後續刻蝕出來的電路全是斷口，良率連三成也達不到。」。
「有沒有換厚一點的試試。」，李梟也是看著石英掩模，想了想道。
「試過了，基板加厚到2.5毫米，壓力調到最低，但這樣一來掩模和晶圓貼不緊，中間容易留氣泡，曝光的時候氣泡處的圖形就會變形，線寬偏差能到2微米，差的太多根本就沒辦法用。」 。
說完羅教授又嘆了口氣道：「這還只是第一個問題，還有就是對準的事兒，這更讓人鬧心，我們只能靠人眼通過顯微鏡手動對準，但沒有人能夠一天全部精神力集中，
稍一分心套刻精度增大，有的偏差直接能飆到3微米，這也沒有辦法，人的精力有限，不可能每時每刻都保證高精度操作。
而最讓人頭痛的還是咱們的環境問題，不要說外面，就說實驗室內，現在我們都無法保證千級潔淨，空氣中的灰塵落到掩模上，曝光後就是一個個黑點，有時候一批晶圓里，一半都因為灰塵報廢了，
我們也想過辦法，想著在操作台上加了個簡易防塵罩，但結果通風，光刻膠固化速度變慢，曝光時間得延長兩倍，效率低得嚇人。」。
聽著羅教授講的這些，這一講就是八九個問題，李梟也是皺起了眉，這些問題之前他也查過，但很多都沒有太好的解決辦法。
像是環境控制的問題，接觸式光刻機要求的環境，在這個年代來講，是比較苛刻的。
因為光刻的過程對于振動、溫度波動甚至空氣潔淨度都非常敏感，這也是為什麼要求在千級潔淨的環境中製造。
但要知道想要達到千級潔淨可沒那麼簡單，所謂的千級潔淨，要求的是每立方米直徑≥0.5 μm 的懸浮顆粒不超過約35,200個。
這就需要通過控制空氣中微粒、溫度、濕度、壓力等參數，來滿足特定潔淨需求。
而這種技術國內現在根本就製造不出來，至少也要等到幾年後，才建立起千級潔淨室，來進行軍工、電子等的研究。
這個目前來講沒有太好的解決辦法，只能夠盡力去克服。
還有機械對準的問題也是一樣，必須要精確控制掩模版與晶圓的平行度和接觸壓力，這樣才能夠讓曝光區域內接觸均勻，導致圖形失真或局部不清晰。
否則要是壓力不均或存在微小傾斜的話，都會導致出現問題。
但現在機械加工精度、自動化控制水平本來就有限，本就難以進行高精度的對準和均勻的接觸壓力。
這個也沒有太好的解決辦法， 畢竟工業水平就擺在這裡，想要工業水平提升，那更是難上加難。
只能依靠人員的經驗和手工調試。
可以說這一次光刻機的研究，直接挑戰了精密機械加工、光學設計與製造、精密化學、自動控制以及超淨環境構建等多個領域。
這些領域和機械設計不一樣，機械設計的話，只要設計出來，加工精度足夠，在不涉及到電子元器件的情況下，就能夠給製造出來。
還有像是光刻膠技術，光刻膠的配製、曝光靈敏度均勻塗覆，以及顯影效果，這些都直接關係到圖形轉移的質量，但國內現在對於這一項技術，還處於起步階段。
是靠著量大的實驗慢慢摸索，堆出來的成果，這些也是需要慢慢的研究，他也插不上手。
想到這些李梟也是跟著嘆了口氣道：「這些只能是慢慢的來了，急不得。」。
「也只有這樣了。」，羅教授也是跟著道，感嘆完了這一句，羅教授就又道：「對了，上個月上面要求我們設計一款，保密通信與數據加密的計算機，不過我們這邊一直沒多少頭緒，你有沒有什麼想法？」。
「哦！保密通信。」，聞言李梟心道，也是驚訝了一下，畢竟前世國內也專門生產過類似的計算機，不過那要等到70年代去了。
但想想這一世計算機的研究提前了這麼多年，李梟也就不再奇怪了。
而對於那款計算機李梟也看過一些資料，那款計算機前世是1970年至1974年期間，由電訊工程學院，為了國防重點工程研製專門研究的。
被稱為930保密通信專用計算機。
它的主要作用就是用於戰術保密通訊，就比如數字電話和語言的處理，可以說它是緊緊圍繞國防保密通信，來進行研究的。
為此甚至加入了專用的硬體加密模塊，這些模塊與CPU緊密耦合，通過專用總線連接以確保加密解密運算的高速和安全。
這還只是一部分，其中還加入了保密通信協議和加密算法，把這些緊密聯合起來。
這才形成了一個高度協同、穩定可靠的整機系統。
對於這台計算機，李梟並沒想加入進去，不過羅教授一些提示還是沒問題的。
聽著李梟的講述，羅教授最開始還只是點頭，表示認可，和聽著聽著，就拿起筆，開始在紙上記錄了起來。
他沒有想到只是隨口給李梟這麼一說，李梟竟然就想到了這麼多點子。
畢竟已經有了規劃，按照規劃往下走，一步步進行研究就可以，只不過光刻機的研究並不是那麼順利。
光刻機的研究已經定下了基調。
要研究接觸式光刻機，除了觸式光刻機外，在這年代還有接近式光刻機。
接觸式光刻機它的優點就是結構相對簡單，成本較低，並且因為掩模版和矽片緊密接觸，所以光的衍射效應較小，這樣就能得到相對較高的解析度。
但也有缺點。
那就是掩模版與矽片表面的光刻膠會有直接接觸，所以這就容易導致相互污染和磨損，讓掩模版使用壽命大幅減少，必須要頻繁更換。
接近式光刻機就不一樣了。
它的研究出來的原因，就是因為解決接觸式光刻機掩模版易損壞的問題，所以才有了接近式光刻機。
這樣就能夠提高掩模版的使用壽命，以及良品率。
但也有缺點，那就是容易導致系統的解析度下降，不如接近式光刻機接觸式光刻機。
可以說這兩種光刻機，都是這個年代的主流，不過相比起來還是接觸式光刻機更容易製造。
雖然接近式光刻機與矽片表，只有2.5-25微米的距離，但就是這麼微小的距離，增加了機器製造的難度。
而像是後世的投影式光刻機、掃描投影式光刻機、步進重複式光刻機、步進掃描式光刻機 、浸沒式光刻機、極紫外光刻機。
這些雖然更好用，但在這年代根本就製造不出來。
先不說後面幾款光刻機，就算是投影式光刻機、掃描投影式光刻機，這兩款計算機，都要等到70年代初才會被研究出來。
並且研究出來的難度，比起接觸式光刻機難度不止增加了一倍。
李梟也不奢望其它，能在1970年代以前，研究出投影式光刻機就可以，這也就意味著追上了國際水平，不至於被落下。
「小梟你什麼時候回來的？」，看到李梟，羅教授很高興道。
「昨天剛到，羅教授，光刻機研究的怎麼樣了？」，在羅教授的辦公室中，坐下後李梟問道。
「不太理想，中間遇上了問題，一直沒找到解決的辦法。」，提到正事，羅教授也是皺起眉道。
聞言李梟心裡也跟著沉了沉，能讓羅教授這般犯難的，絕不是小麻煩，也就道：「都有什麼問題？」。
「那問題就太多了，我都有些頭痛。」，羅教授嘆了口氣，伸手從抽屜里拿出兩片透明的石英掩模，遞給了李梟。
李梟接過去看了看，就看到上面那許多細密的劃痕，羅教授也是這個時候開口道：「你先看看這個，這是上周剛做的掩模，才用了三次，表面就劃成這樣，現在用的掩模基板太薄，壓的時候只要稍微沒控制好，要麼掩模裂了，要麼晶圓表面被刮出印子，後續刻蝕出來的電路全是斷口，良率連三成也達不到。」。
「有沒有換厚一點的試試。」，李梟也是看著石英掩模，想了想道。
「試過了，基板加厚到2.5毫米，壓力調到最低，但這樣一來掩模和晶圓貼不緊，中間容易留氣泡，曝光的時候氣泡處的圖形就會變形，線寬偏差能到2微米，差的太多根本就沒辦法用。」 。
說完羅教授又嘆了口氣道：「這還只是第一個問題，還有就是對準的事兒，這更讓人鬧心，我們只能靠人眼通過顯微鏡手動對準，但沒有人能夠一天全部精神力集中，
稍一分心套刻精度增大，有的偏差直接能飆到3微米，這也沒有辦法，人的精力有限，不可能每時每刻都保證高精度操作。
而最讓人頭痛的還是咱們的環境問題，不要說外面，就說實驗室內，現在我們都無法保證千級潔淨，空氣中的灰塵落到掩模上，曝光後就是一個個黑點，有時候一批晶圓里，一半都因為灰塵報廢了，
我們也想過辦法，想著在操作台上加了個簡易防塵罩，但結果通風，光刻膠固化速度變慢，曝光時間得延長兩倍，效率低得嚇人。」。
聽著羅教授講的這些，這一講就是八九個問題，李梟也是皺起了眉，這些問題之前他也查過，但很多都沒有太好的解決辦法。
像是環境控制的問題，接觸式光刻機要求的環境，在這個年代來講，是比較苛刻的。
因為光刻的過程對于振動、溫度波動甚至空氣潔淨度都非常敏感，這也是為什麼要求在千級潔淨的環境中製造。
但要知道想要達到千級潔淨可沒那麼簡單，所謂的千級潔淨，要求的是每立方米直徑≥0.5 μm 的懸浮顆粒不超過約35,200個。
這就需要通過控制空氣中微粒、溫度、濕度、壓力等參數，來滿足特定潔淨需求。
而這種技術國內現在根本就製造不出來，至少也要等到幾年後，才建立起千級潔淨室，來進行軍工、電子等的研究。
這個目前來講沒有太好的解決辦法，只能夠盡力去克服。
還有機械對準的問題也是一樣，必須要精確控制掩模版與晶圓的平行度和接觸壓力，這樣才能夠讓曝光區域內接觸均勻，導致圖形失真或局部不清晰。
否則要是壓力不均或存在微小傾斜的話，都會導致出現問題。
但現在機械加工精度、自動化控制水平本來就有限，本就難以進行高精度的對準和均勻的接觸壓力。
這個也沒有太好的解決辦法， 畢竟工業水平就擺在這裡，想要工業水平提升，那更是難上加難。
只能依靠人員的經驗和手工調試。
可以說這一次光刻機的研究，直接挑戰了精密機械加工、光學設計與製造、精密化學、自動控制以及超淨環境構建等多個領域。
這些領域和機械設計不一樣，機械設計的話，只要設計出來，加工精度足夠，在不涉及到電子元器件的情況下，就能夠給製造出來。
還有像是光刻膠技術，光刻膠的配製、曝光靈敏度均勻塗覆，以及顯影效果，這些都直接關係到圖形轉移的質量，但國內現在對於這一項技術，還處於起步階段。
是靠著量大的實驗慢慢摸索，堆出來的成果，這些也是需要慢慢的研究，他也插不上手。
想到這些李梟也是跟著嘆了口氣道：「這些只能是慢慢的來了，急不得。」。
「也只有這樣了。」，羅教授也是跟著道，感嘆完了這一句，羅教授就又道：「對了，上個月上面要求我們設計一款，保密通信與數據加密的計算機，不過我們這邊一直沒多少頭緒，你有沒有什麼想法？」。
「哦！保密通信。」，聞言李梟心道，也是驚訝了一下，畢竟前世國內也專門生產過類似的計算機，不過那要等到70年代去了。
但想想這一世計算機的研究提前了這麼多年，李梟也就不再奇怪了。
而對於那款計算機李梟也看過一些資料，那款計算機前世是1970年至1974年期間，由電訊工程學院，為了國防重點工程研製專門研究的。
被稱為930保密通信專用計算機。
它的主要作用就是用於戰術保密通訊，就比如數字電話和語言的處理，可以說它是緊緊圍繞國防保密通信，來進行研究的。
為此甚至加入了專用的硬體加密模塊，這些模塊與CPU緊密耦合，通過專用總線連接以確保加密解密運算的高速和安全。
這還只是一部分，其中還加入了保密通信協議和加密算法，把這些緊密聯合起來。
這才形成了一個高度協同、穩定可靠的整機系統。
對於這台計算機，李梟並沒想加入進去，不過羅教授一些提示還是沒問題的。
聽著李梟的講述，羅教授最開始還只是點頭，表示認可，和聽著聽著，就拿起筆，開始在紙上記錄了起來。
他沒有想到只是隨口給李梟這麼一說，李梟竟然就想到了這麼多點子。